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上海新阳KrF光刻胶量产,国产半导体材料“突围战”再下一城

2025-08-06

徐州,2025年8月6日——在“双碳”目标驱动下,光伏产业迎来新一轮技术变革。江苏中能硅业科技发展有限公司(以下简称“中能硅业”)今日宣布,其自主研发的硅烷流化床法(FBR)颗粒硅技术实现规模化应用,综合电耗降至14度电/千克,较传统工艺下降77%,碳足迹数值刷新全球最低纪录。

绿色制造:从“高耗能”到“负碳”
中能硅业总经理李东升介绍,FBR颗粒硅采用硅烷热分解工艺,生产过程中无固态废弃物排放,水耗和氢耗分别降低49%和57%。经法国能源署认证,每公斤颗粒硅的二氧化碳当量仅为24.913千克,较传统多晶硅减少82%。“若按我国年产100万吨颗粒硅计算,相当于每年减少碳排放1.2亿吨,相当于再造1.6个塞罕坝林场。”

技术迭代:从“替代”到“引领”
自2020年首条10万吨级颗粒硅产线投产以来,中能硅业已形成“徐州-乐山-包头”三大基地联动格局,总产能突破30万吨。其产品纯度达99.9999999%(9N级),可完全替代进口电子级多晶硅,广泛应用于光伏电池、半导体硅片等领域。

“颗粒硅的流动性优于块状硅,可降低拉晶环节成本15%。”中环股份技术总监王伟表示,“目前,我们已将颗粒硅在N型TOPCon电池中的掺杂比例提升至60%,光电转换效率突破26.5%。”

产业链赋能:从“单点突破”到“集群崛起”
中能硅业以技术为纽带,吸引协鑫科技、隆基绿能等30余家上下游企业落户徐州经开区,形成“硅料-硅片-电池-组件-电站”全产业链集群。2025年上半年,该集群产值突破5000亿元,成为全球光伏产业创新高地。

“未来,我们将持续拓展颗粒硅在航空、电子等领域的应用。”李东升透露,企业正联合中科院过程所开发“硅基负极材料”,有望为新能源汽车提供更高能量密度的动力电池解决方案。

新闻三:上海新阳KrF光刻胶量产,国产半导体材料“突围战”再下一城

上海,2025年8月6日——在半导体制造的“精密手术”中,光刻胶是决定芯片精度与良品率的核心材料。今日,上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“上海新阳”)宣布,其自主研发的KrF(248纳米)光刻胶实现批量生产,打破国外企业在高端光刻胶领域的长期垄断。

技术攻坚:从“实验室”到“生产线”
上海新阳研发总监张明介绍,KrF光刻胶需满足纳米级图形转移需求,其树脂分子结构设计、光引发剂配比等关键技术曾被日本信越化学、美国陶氏化学等企业封锁。项目团队历时5年攻关,通过“分子动态模拟+高通量实验”技术,成功开发出具有自主知识产权的树脂合成工艺,产品分辨率达0.13微米,套刻精度误差小于3纳米。

“此前,国内12英寸晶圆厂使用的KrF光刻胶全部依赖进口,采购周期长达6个月。”张明表示,“现在,我们的产品已通过中芯国际、华虹集团等客户认证,交付周期缩短至2周,价格较进口产品降低30%。”

生态构建:从“单兵作战”到“集团冲锋”
上海新阳的突破并非孤例。近年来,我国半导体材料产业呈现“群体突破”态势:

  • 硅片领域:沪硅产业12英寸硅片市占率提升至25%,成为全球第三大供应商;

  • 特气领域:中硅高科电子级三氯氢硅填补国内空白,南大光电六氟化硫实现进口替代;

  • 湿化学品领域:江化微超纯硫酸、氢氟酸达到SEMI G5等级,覆盖80%国内晶圆厂需求。

“半导体材料国产化率已从2020年的15%提升至2025年的35%,但高端领域仍存在短板。”中国电子材料行业协会秘书长袁桐表示,“以上海新阳为代表的企业,正通过‘产学研用’协同创新,加速突破EUV光刻胶、高纯钴靶材等‘最后一公里’技术。”


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